AI需要拡大を受け2028年後半の装置搬入を予定

Micron Technology, Inc.（本社：アメリカ アイダホ州）は7月4日、AI向け先進メモリの需要拡大に対応するため、広島工場（広島県東広島市）に新たなクリーンルームの建設を開始したと発表した。第一期工事の面積は約2万8,000平方メートルで、日本における先進メモリの製造能力を強化する。製造装置の搬入は2028年後半を予定。

今回のプロジェクトは、AIの普及に伴って急増するDRAMやHBM（広帯域メモリ）の需要拡大を見据えたもの。建設は株式会社フジタが担当し、経済産業省が支援する先進メモリ研究開発・製造プロジェクトの一環として進められる。これに伴い、政府は広島拠点に対し、最大5,360億円の支援を決定している。

広島工場は、マイクロンが2013年にエルピーダメモリを買収して以降、同社のDRAM開発・生産における重要拠点として位置付けられてきた。1β（1ベータ）DRAMの量産や、1γ（1ガンマ）DRAMにおけるEUV露光技術の導入など、先端プロセスの開発・製造を担っており、今回の増設は同拠点として過去最大規模のクリーンルーム拡張となる。

新施設の稼働により、マイクロンはグローバルの製造・研究開発ネットワークにおける先進メモリの供給体制をさらに強化する考えだ。AI向けDRAMやHBMの開発・量産を支えるほか、日米の半導体エコシステム強化やサプライチェーンの強靭化にも寄与するとしている。

また、地域経済への波及効果も見込まれており、国内調達や地域企業との連携を拡大するとともに、将来的には1,000人以上の雇用創出への貢献も期待されている。マイクロンは広島県および東広島市と連携し、人材育成や地域インフラ整備なども含め、長期的な地域社会への投資を進める。

文： 編集部 松枝 清顕
Micron Technology, Inc.： https://jp.micron.com/